TWS-50等离子清洗机是常规的小批量生产用机型 ,其具有的手动与自动控制功能非常方便操作使用;广泛应用于ITO玻璃、光学玻璃、LCD、LED、 IC,PCB,SMT、BGA、引线框架、平板显示器的清洗和蚀刻;可清除金属、陶瓷、塑料表面的有机污染物,能显著加强这些表面的粘性及焊接强度;
主要应用领域:
1、半导体元件、印刷线路板的清洗。
2、高分子材料表面修饰
3、生物芯片、微流控芯片的清洗
4、芯片、电子元件、光学器件、激光器件、镀膜基片等的清洗
5、各种形状的人工晶体、ATR元件、天然晶体和宝石的清洗。
6、光学镜片、电子显微镜片等多种镜片和载片的清洗。
7、各种陶瓷、金属基片上的残留凝胶等杂质的清洗。
8、各种医疗器材和仪器的清洗。
9、增加复合材料、生物分子材料表面的结合力。
特点:
常规的清洗和处理,无需外加特殊气体,即能满足处理和清洗的需要。同时该图也是机器调试的参考标准:当外加气体(Gas1)为普通大气时,气体的流量决定其发光色度,色度过重表示气体流量过大,产生的离子数目过高,虽然对处理过程显得效果明显,但会使射频电流急剧增加,造成温度过高;而色度偏白时,意味着外加气体过少,等离子产生的数目极低,也不适宜正常的处理清洗需要。故舱体的发光色度是一个多维参数,其主体是气体流量。
技术规格
1.引进美国霍尼韦尔真空压力传感器使得机器在智能控制下有了可靠的依据
2.舱体、管路、阀体全部为不锈钢材料,为全防腐型
3.实现了手动,自动两种模式任意切换的工作方式
4.实现了程序化设计,预先编辑好程序,仪器可以自动完成实验
5.无需任何耗材,使用成本低
6.无需特殊进行维护,在日常使用中保持仪器清洁即可
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