| 详细介绍： BSBY_f003
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曝光时间的降低
制程制作的TFT基板，需要重复五次曝光制程，完成整个曝光动作的总时间越短，越能有效地增加仪器使用率，亦即，可以降低生产周期，提高产出，而掩模的更换和移动，都会花费一些时间，如何设计出tact time较短的曝光制程，也是在面板接合掩模设计时要考虑的课题之一。
基板上面板放置与其掩模接合设计
一片TFT基板上会有许多个面板，还要考虑基板周边无法使用的区域，以及对齐切割线的位置，而将面板有规律地安排在基板上，另外，还要计入所述的对准标示和测试键等。因此在掩模设计时，除了要考虑一个面板的接合方式以外，还要整体计算面板图形在基板上的确实曝光位置，并把所需要的所有图形都纳入掩模中，设定其对应的曝光位置，更增加了掩模接合设计的复杂度。
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