产品价格:面议 元(人民币) 上架日期:2014年5月24日 产地:北京 发货地:北京 (发货期:当天内发货) 供应数量:不限 最少起订:1台 浏览量:554 暂无相关下载 其他资料下载:
简要说明:
※产品用途:
CNT生产的CVD(真空化学气相沉积炉)是一种用于在基片上生成高质量TiC、SiC、SiO2、Si3N4 专用设备。淀积温度能够较高 (100~1200℃可调 ) ,它已成为机械制造工业、冶金工业、光学工业、半导体工业等领域微电子和光电子领域科研和生产不可缺少的设备。 ※产品结构:
CNT公司CVD设备主要由全真空专用不锈钢腔体,分子泵或扩散泵高真空系统,电源,生长机体载体及温控系统,独立排气和生长压力调节系统,冷却循环水辅助设备等组成。整机结构紧凑、操作方便、抽真空速度快。此设备控制系统采用逻辑按钮手动控制与工控机自控控制可选。实现真空抽气和镀膜工艺一体化功能。此设备可用于制作SiO2、Si3N4、非晶Si:H、多晶Si、SiC、W、Ti-Si、GaAs、GaSb等介电、半导体及金属膜等。