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  金相样品制备和分析中的技巧及方法
以下内容由上海维翰光电科技有限公司www.vishent.com 发布
摘 要:介绍了一般金相样品制备过程中样品高度对制样过程的影响,以及特殊的镶嵌技巧;同时涉及了镧镍储氢材料样品制备的方法、技巧及效果,以及微差干涉技术在无铅钎料研究中的实际应用 。
关键词: 样品高度;镶嵌;储氢材料;微差干涉技术( D I C)
金相样 品的制备在相当程度上是一个经验、技巧的过程;同时,由于新材料、新技术的应用,对于金相检验方法也提出了进一步的要求。笔者在实际工作中对一些制样的细节,以及在新材料、新技术的检验和应用上获得了一些经验和体会。
1 样品高度的控制
试样的几何尺寸实际上制约着样品在手工机械磨光和抛光过程中的平衡控制。如果在进行磨光前的取样和镶嵌阶段多留意一下样品最终磨制时的高度以及高度与磨面最小径向尺寸的关系,会有效地提高工作的效率和效果。
受预磨机磨光盘直径的限制,金相样品的磨面通常介于 1 5 0 ~4 0 0 mm 2 之间( <1 5 0 mm 2的试样先镶嵌,再磨制) 。一般情况下,磨面越大,试样高度越低,稳度越大,越有利于对试样的平稳控制。因此,对于不需要镶嵌的样品,在截取样 品时注意磨面的最小径向尺寸与样品截取后高度之间的比例关系 ,尽可能的情况下降低高度。为方便握持,通常取试样高度在 10 ~2 0 mm范围内。
需要镶嵌的试样,最终的试样直径规格为2 2 m m和 2 5 m m的,其高度应控制在 12 ~1 5 mm直径为 3 0 mm 和 4 0 mm 的,样品高度应控制在 1 5 ~2 0 m m,一般情况下应当偏低限。这就需要 操作者在取样时注意原始样品的高度。
另外 ,考虑利用机械夹持的方式进行镶嵌时,夹具的制作应当考虑高度的限制,不要为了多次使用的考虑将夹具制作的高度突破20 mm ,应当将夹具与样品作为一个整体来考虑 。
2 管状试样内壁边缘组织的保护
内表面经化学 、物理沉积或其它表面化学热处理后的管状试样 ,其内表面如果不经过适当的保护,在磨光和抛光过程 中很容易形成圆角 ,影响边缘组织的观察 、记录和分析。根据有关资料介绍,可在镶嵌时在管状的内部加入少量加强型镶嵌填料 ,或在管内插入钢圆柱,使钢圆柱的直径尽可能接近管内径,但是 ,钢柱与试样边缘 间的空隙内填料不密实,也容易出现圆角;同时,由于间隙内可能存留侵蚀液,在样品侵蚀后容易逸出造成侵蚀斑迹 ,影响样品的质量。若钢圆柱直径远小于管内径时,能被良好保护的表面范围非常窄小。当管状试样的内孔在1 0mm 以内时,按图 1 所示,放一个螺钉后再镶嵌效果很好。
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