详细介绍:
SG2V-1-12TP真空井式坩埚炉是由石英坩埚或者氧化炉坩埚,和不锈钢法兰组成的真空坩埚炉。工作温度区间800℃至1200℃。该系列设备的控制系统国际,具有安全可靠,操作简单,控温精度高,保温效果好,炉膛温度均匀性高,可通气氛抽真空等特点,广泛应用于高等院校,科研院所,工矿企业等实验和小批量生产。 真空井式坩埚炉以进口含钼电阻丝或者硅碳棒为加热元件,采用双层壳体结构和智能化程序控温系统,移相触发、可控硅控制,炉膛采用氧化铝多晶体纤维材料,双层炉壳间配有风冷系统,能快速升降温,具有真空装置,该炉具有温场均衡、表面温度低、升降温度速率快、节能等优点。
主要用途:高校、科研院所、工矿企业主要用于煅烧真空或惰性气体中的高纯度化合物,退火或扩散半导体晶片,也可以用于烘烧或烧结陶瓷材料等。
产品型号
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SG2V-1-12TP
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工作电源
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AC220V 50/60HZ
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炉膛尺寸
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外径205x内径190x高340mm
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额定功率
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≤3kw
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外形尺寸
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450x550x650mm
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重量
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70kg
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升温快速度
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0~30℃/min(建议不超过20℃)
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产品特点
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可装真空装置,能在多种气氛下工作,50段程序控温
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加热元件
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含钼电阻丝
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常用温度
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≤1100℃
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高温度
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1200℃
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控温方式
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30段智能化程序PID模糊控制
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恒温精度
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±1℃
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控温仪表
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智能温控仪
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密封方式
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全封闭
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炉膛
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氧化铝多晶纤维炉膛,设计合理,经久耐用,保温性能好,节能
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测温元件
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K型热电偶
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炉门结构
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上开式
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主要配件
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密封法兰1套,坩埚1个,真空泵1台,高温手套1副,热电偶1根等
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大真空限
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≤0.1MPa
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备注
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可定制
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