北京瑞亿斯RTP-500型快速热处理设备快速热处理炉快速退火炉怎么使用说明购买

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RTP-500型快速热处理设备生产厂家?快速热处理炉哪里购买?快速退火炉

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1．用途

快速热处理技术（RTP）近年来得到越来越的应用，可用于硅及化合物半导体材料离子注入后的退火，硅化物形成，欧姆接触制备以及快速氧化，快速氮化等方面。该设备具有很好的长时间工作稳定性以及快速升降温，慢速升降温的功能，因此也可用于铁电膜的制备以及各种半导体材料CVD工艺的热处理。

RTP-500?快速热处理设备技术指标
1.?温度范围:?150?-?1300?C
2.?升温速率:?0.001-220C?/?s?可予设定
3.?样品架尺寸:?4英寸?
4.?密封石英盒内尺寸:?215?X?140X?14?mm
5.?PC?机控制.?CPU?主频?2.1G?内存128?M?,?硬盘40?G?,?软驱1.44M?,?17?英寸显示器,?WIN?2000?操作系统.?配有AD/DA卡,?及RTP-500控制软件.
6.?可编程温度曲线存储500?条以上,?每条曲线包括50段以上,?温度设定范围?100-1300?C?,?时间设定范围1-30000?秒
7.?实时温度曲线显示及存储功能?.?文件格式输出
8.?双闭环温度控制,?稳态温度稳定性 /-?2?C?,1000C连续工作>1小时
9.光源:?1.5KW?X?13?卤钨灯?
10.电源:?380?V?35A?三相?五线(三火线,?零线,?地线)
11.水源:?自来水或循环水,?水压?1-3?kg?/?平方厘米,?流量6-8升/分
12.?外形尺寸:?电源箱?440?X?200?X?520?mm?,?炉体箱?440X200X520?mm

2．主要技术参数数据

2.1 温度范围150℃-1300℃，建议使用温度范围150℃-1250℃

2.2 升温速率0.001-220℃/秒，可预设定2-20

2.3 密封石英盒尺寸：210×140×14mm

2.4?PC机控制。CPU主频1.1G，内存128M，硬盘20G,软驱1.44M，40倍速光驱，显示器15寸彩显

2.5?可编程温度曲线存储500条以上，每条曲线可包括50段以上，温度设定范围100℃-1300℃时间设定范围1-30000秒

2.6?实时温度曲线，显示及存储功能，存储实验曲线500条以上。

2.7?手动控制：时间设定范围1-9999秒，温度设定范围100-1300℃

2.8?双闭环温度控制，稳态温度稳定性±2℃

2.9?光源：1.25KW×13卤钨灯

2.10?电源：380V　32A　3相

2.11?外形尺寸：电源箱440×200×520mm

炉体箱440×200×520mm

PC机：标准尺寸

3．工作原理及结构

3.1原理简述

???在聚光腔内的卤钨灯产生的光辐照，通过石英盒照射到样品上。由于样口是聚光腔内的光吸收体，腔内的光线大部分被样品所吸收，使样品温度快速升高。测温热电偶测出温度信号，经线性化和放大 ，通过A/D转换送入PC机。PC机根据预定的温度曲线，以及当前温度值，决定控制电压的大小，经D/A转换器送入接口电路。通过控制电路和固态控制器，控制灯电流大小，实现闭环控制。

3.2快速退火炉结构

上下前后四块反光板均为水冷，以保持良好的温度稳定性和较快的降温速度。石英盒为密封结构，盒后部有一个气嘴，可通往保护气体。盒前部与垫板之间用704硅胶封结。以良好的密封性能。垫板侧面有一个气嘴，与排气管相连。垫板用螺钉固定在前反光板上。石英盒后端有两个带弹簧的顶钉压紧。石英盒内部的后部放有一石英挡条，使保护气体气流均匀。前盖上装有石英样品架和测温热电偶。热电偶经过氧化处理，其表面吸收系数与硅片相近。前盖装有“O”型密封圈，其密封。前盖装在导柱上可以前后滑动。装片时拉出来，退火时推进去。石英盒上面装有6支卤钨灯。下面装有7支卤钨灯。每支灯上串有1欧姆电阻。其作用是减小启动时的冲击电流及电流取样。退火炉两侧装有风扇，给卤钨灯及石英盒强制风冷。退火炉面板左侧装有N2流量计，可调节和监视保护气体的流量。面板右侧有两排发光二极管。用来监视每支卤钨灯的电流。

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