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光刻胶介绍
光刻胶介绍
光刻胶是一种对光线、温度、湿度十分敏感的材料，光刻胶 美国，可以在光照后发生化学性质的改变，这是整个工艺的基础。
光刻胶有不同的类型，pmma（pmgi）以及dnq（酚醛树脂）等材料都可以做光刻胶。
目前光刻胶市场上的参与者多是来自于美国、日本、韩国等国家，包括futurrex、陶氏化学、杜邦、富士胶片、信越化学、住友化学、lg化学等等，中国公司在光刻胶领域也缺少核心技术。
芯片光刻的流程详解（二）
所谓光刻，光刻胶 半导体，根据维基百科的定义，这是半导体器件制造工艺中的一个重要步骤，该步骤利用曝光和显影在光刻胶层上刻画几何图形结构，然后通过刻蚀工艺将光掩模上的图形转移到所在衬底上。这里所说的衬底不仅包含硅晶圆，还可以是其他金属层、介质层，例如玻璃、sos中的蓝宝石。
光刻的基本原理是利用光致抗蚀剂（或称光刻胶）感光后因光化学反应而形成耐蚀性的特点，将掩模板上的图形刻制到被加工表面上。

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pcb被誉为"电子产品之母"，广泛应用于各个电子终端。2016年，全球pcb市场规模达542.1亿美元。国外研究机构预测，光刻胶 显影，pcb市场年复合增长率可达3%，到2020年，光刻胶，pcb全球市场规模将达到610亿美元；中国在2020年pcb产值有望达到311亿美元，在2015-2020年期间，年复合增长率略高于国际市场，为3.5%。得益于pcb行业发展刚需，我国pcb光刻胶需求空间巨大。
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