容量：267CC<\/p>

一：简介<\/span><\/p>

      哈氏槽又称<\/span>霍尔槽<\/span>,<\/span>赫尔槽<\/span>,HULL CELL<\/span>是一种对电镀溶液既简单又实用的试验槽，<\/span><\/p>

系为<\/span>R.O.Hull<\/span>先生在<\/span>1939<\/span>年所发明的。有<\/span>267 CC<\/span>、<\/span>534 CC<\/span>及<\/span>1000 CC<\/span>三种型式，<\/span><\/p>

但以<\/span>267<\/span>**常用。可用以式验各种镀液，在各种电流密度下所呈现的镀层情形，以找<\/span><\/p>

出实际操作**的电流密度，属于一种<\/span>"<\/span>经验性<\/span>"<\/span>的试验。通常的做法是将表面故意皱折的<\/span><\/p>

阳极，放在图中的第<\/span>2<\/span>边<\/span>(<\/span>故意皱折是使其表面积与面对的阴极片相等<\/span>)<\/span>，将阴极放在第<\/span><\/p>

4<\/span>边，至于所用之电流密度及时间则随各种镀液而不定，须不断试做以找出标准条件。镀<\/span><\/p>

后可将阴极片的下缘，对准<\/span>"<\/span>哈氏标尺<\/span>"<\/span>上某一所用电流密度处，即可看出阴极片上**区<\/span><\/p>

域所对应的实际电流密度。哈氏槽还有另一用途，是将阳极放在第<\/span>1<\/span>边而将阴极放在第<\/span>3<\/span><\/p>

边，亦可看出阴极片上最左侧低电流区的镀层情形。<\/span><\/p>

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